微光學(xué)元件、系統(tǒng)和應(yīng)用

第1章折射和衍射微光學(xué)的設(shè)計(jì)
1.1引言.
1.2衍射光學(xué)元件和系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
1.2.1相位函數(shù)：描述和實(shí)現(xiàn)
1.2.2最佳設(shè)計(jì)
1.2.3系統(tǒng)設(shè)計(jì)
1.3衍射元件的折射特性
1.3.1閃耀光柵
1.3.2扇出元件
1.4衍射和折射透鏡
1.4.1透鏡的近軸特性
1.4.2折射和衍射光學(xué)元件的像差
1.4.3像差討論
1.5結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第2章微雕刻光柵的衍射理論
2.1引言
2.2電磁光柵理論
2.2.1電磁理論原理
2.2.2光柵衍射問(wèn)題
2.2.3調(diào)制區(qū)域以外的場(chǎng)
2.2.4調(diào)制區(qū)域內(nèi)的場(chǎng)
2.2.5邊界值求解
2.2.6數(shù)學(xué)上的考慮
2.3近似的光柵理論
2.3.1亞波長(zhǎng)周期的光柵
2.3.2復(fù)振幅透過(guò)率方法
2.3.3薄光柵分解法
2.3.4局部平面波法
2.4光柵的衍射特性
2.4.1標(biāo)量理論的有效性
2.4.2光柵分布的參量?jī)?yōu)化
2.5調(diào)制光柵
2.5.1第一級(jí)調(diào)制
2.5.2零級(jí)調(diào)制
2.6結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第3章二元光學(xué)元件的加工技術(shù)
3.1二元光學(xué)技術(shù)——一種制作衍射微光學(xué)元件的有效方法
3.2MIT林肯實(shí)驗(yàn)室對(duì)二元光學(xué)元件的研究和應(yīng)用
3.2.1相位浮雕結(jié)構(gòu)
3.2.2元光學(xué)元件
3.3二元光學(xué)元件設(shè)計(jì)和制造的理論基礎(chǔ)
3.3.1二元光學(xué)技術(shù)
3.3.2光刻術(shù)和基板圖刻技術(shù)
3.3.3二元光學(xué)元件的制造
3.4二元光學(xué)微透鏡陣列的特性
3.4.1制造技術(shù)和光學(xué)特性
3.4.2衍射微透鏡檢測(cè)設(shè)備
3.4.3效率的測(cè)量和討論
3.4.4制造誤差的影響
3.5深結(jié)構(gòu)形三維微光學(xué)元件的制造
3.5.1折射二元光學(xué)元件的制造
3.5.2連續(xù)分布微透鏡
3.5.3彩色識(shí)別用光學(xué)元件
3.6未來(lái)的發(fā)展方向
3.6.1微光學(xué)元件與電子和機(jī)械結(jié)構(gòu)的集成
3.6.2未來(lái)的系統(tǒng)——實(shí)現(xiàn)技術(shù)的集成和發(fā)展
參考文獻(xiàn)
第4章連續(xù)浮雕微光學(xué)元件直寫(xiě)技術(shù)
4.1引言
4.2激光束直寫(xiě)
4.2.1激光束直寫(xiě)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
4.2.2光致抗蝕劑
4.2.3表面浮雕分布的保真度
4.2.4制造微光學(xué)元件實(shí)例
4.3電子束直寫(xiě)
4.3.1系統(tǒng)設(shè)計(jì)和抗蝕劑工藝
4.3.2結(jié)果與實(shí)例
4.4其它的直寫(xiě)技術(shù)
4.4.1聚焦離子束
4.4.2激光燒蝕
4.4.3激光淀積和蝕刻
4.4.4金剛石車(chē)削
4.4.5半色調(diào)掩模技術(shù)
4.5結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第5章折射子透鏡陣列
5.1引言
5.2梯度折射率透鏡
5.3光熱技術(shù)
5.4熱軟熔
5.5光致抗蝕劑的“蝕刻”
5.6研磨和拋光..
5.7輔助技術(shù)
5.7.1增長(zhǎng)焦距
5.7.2復(fù)制
5.7.3離子蝕刻(干蝕刻)
5.8測(cè)試和技術(shù)規(guī)范
5.9結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第6章復(fù)制
6.1引言
6.2電鑄技術(shù)
6.3復(fù)制用材料
6.4熱壓
6.5模壓
6.6鑄造和紫外(UV)復(fù)制
6.7復(fù)制技術(shù)的比較
參考文獻(xiàn)
第7章平面集成自由空間光學(xué)
7.1為什么要集成?
7.2平面光學(xué)
7.3平面光學(xué)互連技術(shù)
7.3.1信號(hào)分配
7.3.2成像
7.3.3光電芯片和被動(dòng)光學(xué)元件的混合集成
7.4公差
7.4.1基板的缺陷
7.4.2溫度變化
7.5平面光學(xué)的應(yīng)用
7.6結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第8章層疊式微光學(xué)系統(tǒng)
8.1引言
8.2微光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
8.3層疊平面集成中折射微光學(xué)元件的加工技術(shù)
8.4微光學(xué)系統(tǒng)的封裝
8.5應(yīng)用舉例
8.6結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第9章激光束成形
9.1引言
9.2激光束成形的優(yōu)點(diǎn)
9.2.1使光束形狀與應(yīng)用相匹配
9.2.2光束成形對(duì)激光系統(tǒng)的改進(jìn)
9.3相干的外諧振腔技術(shù)
9.3.1單孔徑技術(shù)
9.3.2多孑乙徑技術(shù)
9.4激光諧振腔內(nèi)的光束成形
9.4.1單孔徑技術(shù)
9.4.2多孑乙徑技術(shù)
9.5結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第10章混合(折射／衍射)光學(xué)
10.1引言
10.2消色差
10.2.1折射透鏡的色散
10.2.2消色差雙透鏡
10.2.3衍射透鏡的色散
10.2.4混合消色差
10.3消熱透鏡
10.3.1光熱膨脹系數(shù)
10.3.2混合消熱透鏡
10.3.3混合消熱消色差透鏡
10.4球差
10.5混合陣列發(fā)生器
10.5.1消熱陣列發(fā)生器
10.5.2消色差陣列發(fā)生器
10.6結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第11章傅里葉陣列發(fā)生器
11.1引言
11.2應(yīng)用
11.3一維陣列發(fā)生器
11.3.1二元相位陣列發(fā)生器
11.3.2連續(xù)相位陣列發(fā)生器
11.4二維陣列發(fā)生器
11.4.1設(shè)計(jì)算法
11.4.2其它的抽樣?xùn)鸥?br />11.5加工方面的考慮
11.6結(jié)論
參考文獻(xiàn)
第12章高空間頻率面浮雕光柵的偏振變換特性及其應(yīng)用
12.1引言
12.2偏振參量的定義
12.3零級(jí)層狀面浮雕光柵的偏振特性和應(yīng)用
12.3.1偏振特性
12.3.2層狀零級(jí)光柵作為偏振元件的應(yīng)用
12.3.3設(shè)計(jì)零級(jí)層狀光柵的近似方法
12.4結(jié)論
參考文獻(xiàn)...