本書深入論述了X射線光電子譜(XPS)和靜態(tài)次級離子質譜(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的應用。在聚合物表面的結構分析與特性研究,特別是解決工業(yè)研究中有關問題時,XPS和SSIMS普遍被認為是強有力的技術。隨著過去十年儀器分析能力和數據闡釋方面的飛速發(fā)展,該領域已經發(fā)展到有可能將這兩方面的信息合并起來的階段。本書中,作者敘述了XPS和SSIMS技術,并就各自可獲得的住處類型分別作了解釋。本書也包含實際研究細節(jié),強調了在聚合物表面結構研究中,XPS和SSIMS的信息互與聯合作用,及其同材料性質的關聯。對那些有志于聚合物表面和表面分析科學工作者、工業(yè)研究人員,本書是很有考參價值的。