SiGe 微電子技術

定　價：￥55.00

作　者：	徐世六主編
出版社：	國防工業(yè)出版社
叢編項：
標　簽：	半導體技術

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ISBN：	9787118052527	出版時間：	2007-09-01	包裝：	平裝
開本：	0開	頁數(shù)：	401	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書以器件和集成電路為軸線，從基本概念到器件的原理、設計、制造和電路應用。比較全面地介紹了新近發(fā)展起來的SiGe微電子技術。全書共九章，內(nèi)容涉及SiGe材料的性質、SiGe材料的制備、SiGe異質結構、SiGe異質結雙極型晶體管、SiGe場效應晶體管、SiGe集成電路、SiGe器件及其電路的發(fā)展動態(tài)等，并對SiGe在光電子領域的應用作了簡明的介紹。講述簡明扼要，并反映出了最新的研究成果和發(fā)展趨勢。本書可供在半導體器件、集成電路和相關領域工作的科技工作者參考，也可作為微電子技術、光電子技術、電子材料、電子元器件、電子物理、電子工程等領域大學本科生及研究生的教材。

作者簡介

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圖書目錄

第一章 SiGe技術的發(fā)展及其應用概述
1.1 SiGe器件
1.1.1 SiGe雙極型器件
1.1.2 SiGe場效應器件
1.1.3 SiGe光電器件
1.1.4其他SiGe器件
1.2 SiGe-HBT的主要應用
1.2.1 SiGe放大器
1.2.2 SiGe-A/D轉換器
1.2.3 SiGe振蕩器
1.2.4 SiGe混頻器和倍增器、倍減器
1.2.5 SiGe-HBT的其他應用
　1.3 IBMSiGe技術的早期歷史
1.3.1 SiGe技術的起源
1.3.2 SiGe-UHV/CVD技術的發(fā)明
1.3.3 最早采用UHV/CVD技術制作的Si外延基區(qū)晶體管
1.3.4 IBM最早的SiGe基區(qū)晶體管
1.3.5 PNP-SiGe晶體管
1.3.6 fT為75GHZ的SiGe基區(qū)晶體管
1.3.7 SiGe外延基區(qū)晶體管（ETX）
1.3.8 SGe技術的后續(xù)工作
　1.4 SiGe的主要廠商、工藝及代表產(chǎn)品
1.4.1 SiGe技術的兩種主要工藝
1.4.2 IBM的SiGe—BiCMOS工藝及產(chǎn)品
1.4.3 Atmel的SiGe技術
1.4.4 Maxim的SiGe技術
1.4.5 Jazz半導體公司的SiGe技術
1.4.6 TSMC（臺積電）的SiGe技術
1.4.7 SiGe半導體公司
1.4.8 Sirerm.Microdevices的SiGe技術
　1.5 SiGe技術的市場和前景
　1.6 SiGe薄膜的制備工藝概述
　1.7 開發(fā)SiGe-HBT工藝的途徑
1.7.1 采用低溫外延技術淀積SiGe
1.7.2 SiGe—BiCMOS的工藝集成
1.7.3 SiGe-HBT的制作
1.7.4 其他元件的工藝技術
　1.8 SiGe技術的國內(nèi)發(fā)展動態(tài)
　參考文獻
第二章 Si1-xGex的基本物理特性
　2.1 Si1-xGex合金的晶格和一般性質
2.1.1 Si1-xGex合金的相圖
2.1.2 Si1-xGex合金的晶體
　……
第三章應變硅技術原理
第四章 SiGe異質結構
第五章 SiGe材料的主要制備技術
第六章 Si-SiGe異質結雙極型晶體管
第七章 Si-SiGe異質結場效應晶體管
第八章應變硅器件與電路
第九章 SiGe在光電子領域的應用