電化學(xué)吸附和電催化的原位光譜研究（導(dǎo)讀版）

　　20世紀(jì)60年代之前，對固／液界面的研究主要以電信號(hào)（電勢、電流）作為激勵(lì)和檢測手段，獲得電極／電解質(zhì)溶液界面和電極表面的各種平均信息，進(jìn)而從宏觀層次對各種電化學(xué)過程進(jìn)行唯像研究。引入各種譜學(xué)方法研究電化學(xué)過程不僅可在微觀層次揭示電極表面過程，而且可在分子水平深入認(rèn)識(shí)電化學(xué)反應(yīng)機(jī)理，從而發(fā)展電化學(xué)及其相關(guān)學(xué)科的基礎(chǔ)理論，推進(jìn)其在重大領(lǐng)域中的應(yīng)用。但是，由于固／液界面溶劑分子的干擾、電磁輻射在固體材料電極表面反射時(shí)導(dǎo)致能量損失等因素，使得以原位（in-situ）光譜和非原位（eX_situ）電子能譜為核心內(nèi)容的譜學(xué)電化學(xué)的建立過程進(jìn)展緩慢。1966年，J．Feinleib首次觀察到金和銀電極表面的電反射效應(yīng)，奠定了電化學(xué)原位紫外可見反射光譜（UV／Vis）的基礎(chǔ)；1974年，M．Fleiscklman等檢測到經(jīng)電化學(xué)粗糙的銀電極表面的增強(qiáng)拉曼散射信號(hào)，開創(chuàng)了表面增強(qiáng)拉曼散射（SERS）的嶄新領(lǐng)域；1980年，A．Bewick等人成功地建立電化學(xué)原位紅外光譜技術(shù)，推進(jìn)了固／液界面電化學(xué)過程在分子水平層次的研究。近20多年來，各種現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展極大地縮短了將各種新的譜學(xué)技術(shù)應(yīng)用于固／液界面電化學(xué)過程研究的周期，如掃描探針顯微鏡（SPM）、非線性光譜（SHG、SFG發(fā)展，利用同步輻射光源的表面x光譜（EXAFS、EXNES、SXS）和遠(yuǎn)紅外光譜（Far-IR）等。與各種原位譜學(xué)方法的建立同步，在微觀層次和分子水平研究電吸附和電催化過程也取得了豐碩的成果，這不僅極大地豐富了學(xué)科的基礎(chǔ)理論，而且推進(jìn)和發(fā)展了相關(guān)的重要應(yīng)用。

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