光學薄膜制備技術

前言
第1章 光學薄膜原理
1.1 薄膜干涉
1.1.1 光的波動性
1.1.2 薄膜干涉
1.1.3 駐波干涉
1.1.4 偏振效應
1.2 光學薄膜系統(tǒng)的特性計算
1.2.1 矢量作圖法
1.2.2 遞推法
1.2.3 矩陣法
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思考與練習題
第2章 常用光學薄膜
2.1 增透膜
2.1.1 單層增透膜
2.1.2 雙層增透膜
2.1.3 三層增透膜
2.2 反射膜
2.2.1 金屬反射膜
2.2.2 介質高反膜
2.3 分光膜
2.3.1 金屬分光鏡
2.3.2 介質分光鏡
2.4 干涉截止濾光膜
2.4.1 截止帶特性
2.4.2 通帶特性
2.4.3 截止濾光片傾斜使用時的偏振效應
2.4.4 利用金屬薄膜的寬帶截止濾光片
2.5 帶通濾光片
2.5.1 法布里一珀珞濾光片
2.5.2 全介質法布里一珀珞濾光片
2.5.3 多半波濾光片
2.5.4 誘導透射濾光片
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思考與練習題
第3章 真空鍍膜技術
3.1 真空知識
3.1.1 真空基礎知識
3.1.2 真空泵
3.1.3 真空管道與閥門
3.1.4 真空材料
3.1.5 真空密封
3.1.6 真空的測量
3.2 真空鍍膜裝置
3.2.1 真空鍍膜機的構成
3.2.2 真空鍍膜機的安裝與調試
3.2.3 真空鍍膜機的操作步驟
3.2.4 真空系統(tǒng)的檢漏
3.3 真空鍍膜方法
3.3.1 電阻熱蒸鍍法
3.3.2 電子束加熱蒸發(fā)
3.3.3 激光蒸發(fā)
3.3.4 反應蒸發(fā)
3.3.5 濺射
3.3.6 離子鍍
3.3.7 離子輔助鍍
3.3.8 分子束外延
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思考與練習題
第4章 膜層厚度監(jiān)控方法
4.1 目視法
4.2 光學監(jiān)控法
4.2.1 極值法
4.2.2 波長調制法
4.2.3 寬光譜掃描
4.3 石英晶體控制法
4.4 膜層厚度均勻性
4.4.1 膜厚的理論分布
4.4.2 改善均勻性的措施
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思考與練習題
第5章 光學薄膜制備工藝因素
5.1 制備工藝因素分析
5.1.1 基板處理
5.1.2 制備參數
5.1.3 蒸汽入射角
5.1.4 老化處理
5.2 工藝因素優(yōu)選
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思考與練習題
第6章 真空鍍膜材料
6.1 金屬薄膜
6.1.1 鋁（Al）
6.1.2 銀（Ag）
6.1.3 金（Au）
6.1.4 鉻（Cr）
6.2 介質和半導體薄膜
6.2.1 對材料的基本要求
6.2.2 幾種常用薄膜的性質
6.3 紅外與紫外薄膜
6.3.1 紅外薄膜材料
6.3.2 紫外薄膜材料
6.4 有機薄膜與任意折射率薄膜
6.4.1 有機薄膜
6.4.2 任意折射率薄膜
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思考與練習題
第7章 薄膜的結構特性
7.1 薄膜的形成
7.1.1 表面吸附
7.1.2 成核過程
7.1.3 膜的生長
7.2 薄膜的微觀結構
7.2.1 基本的微觀結構特性
7.2.2薄膜生長的計算機模擬
7.2.3 薄膜的晶體結構
7.2.4 微觀結構的觀測
7.3 薄膜的成分
7.4 薄膜微觀結構和成分對膜層性質的影響
7.4.1 光學不穩(wěn)定性
7.4.2 光學損耗
7.4.3 折射率非均勻性
7.4.4 抗激光損傷
7.5 改善結構的途徑
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思考與練習題
第8章 光學薄膜檢測
8.1 薄膜的光學性質及測量
8.1.1 光譜特性
8.1.2 光學常數
8.2 薄膜的力學性質及其檢測
8.2.1 薄膜的附著力和硬度
8.2.2 薄膜的應力
本章小結
思考與練習題
參考文獻