X射線衍射測試分析基礎(chǔ)教程

第1章 緒論
1.1 衍射技術(shù)發(fā)展歷史與現(xiàn)狀
1.2 衍射技術(shù)應(yīng)用概述
1.2.1 粉末照相法
1.2.2 多晶衍射儀法
1.2.3 同步輻射技術(shù)
第2章 晶體學(xué)基礎(chǔ)與X射線運(yùn)動學(xué)衍射原理
2.1 晶體結(jié)構(gòu)與磁結(jié)構(gòu)
2.1.1 晶體結(jié)構(gòu)類型
2.1.2 周期性和點(diǎn)陣空間
2.1.3 點(diǎn)對稱
2.1.4 點(diǎn)群
2.1.5 磁結(jié)構(gòu)和磁對稱
2.2 X射線衍射原理
2.2.1 倒易點(diǎn)陣
2.2.2 晶體的極射赤面投影
2.2.3 衍射幾何理論
2.2.4 單個(gè)晶胞散射和理想晶體散射
2.2.5 單個(gè)理想小晶體的散射強(qiáng)度
2.2.6 多晶體衍射
2.3 X射線衍射系統(tǒng)消光規(guī)律
2.3.1 晶體結(jié)構(gòu)的消光規(guī)律
2.3.2 系統(tǒng)消光與點(diǎn)陣類型和對稱性關(guān)系
2.3.3 衍射指數(shù)指標(biāo)化
第3章 現(xiàn)代X射線衍射儀測試原理
3.1 射線源
3.1.1 普通X射線源
3.1.2 同步輻射光源
3.2 測角儀
3.2.1 測角儀結(jié)構(gòu)及布拉格·膊悸姿·諾聚焦原理
3.2.2 狹縫系統(tǒng)及幾何光學(xué)
3.2.3 測角儀的調(diào)整
3.3 探測器
3.3.1 正比計(jì)數(shù)器
3.3.2 位置靈敏計(jì)數(shù)器
3.3.3 平面位敏計(jì)數(shù)器
3.3.4 閃爍計(jì)數(shù)器
3.3.5 Si（Li）半導(dǎo)體固態(tài)探測器
3.3.6 前置放大器和主放大器及脈沖成形器
3.3.7 單道脈沖分析器
3.3.8 多道脈沖分析器
3.3.9 定標(biāo)器
3.3.1 0速率計(jì)（計(jì)數(shù)率計(jì)）
3.3.1 1探測器掃測方式及參數(shù)
3.3.1 2X射線衍射能量色散測量
3.4 單色器
3.4.1 單色器的原理
3.4.2 晶體單色器的作用
3.4.3 石墨晶體單色器
3.5 濾色片
3.6 發(fā)散狹縫與接收狹縫
3.7 衍射光路
第4章 X射線衍射儀測量方法與分析技術(shù)
4.1 樣品制備
4.1.1 粉末粒度要求
4.1.2 樣品試片平面的準(zhǔn)備
4.1.3 樣品試片的厚度
4.1.4 樣品制備要求
4.1.5 制樣技巧
4.2 參數(shù)選擇方法
4.2.1 衍射參數(shù)
4.2.2 衍射參數(shù)選擇
4.3 數(shù)據(jù)采集
4.3.1 軟件設(shè)置
4.3.2 數(shù)據(jù)格式
4.3.3 誤差分析
4.4 軟件操作與應(yīng)用
4.4.1 X射線衍射的一般實(shí)驗(yàn)過程
4.4.2 BrukerD8Advance系列詳細(xì)參數(shù)指標(biāo)
4.4.3 粉末衍射儀操作步驟
第5章 X射線衍射譜線分析與應(yīng)用
5.1 X射線衍射寬化效應(yīng)
5.1.1 晶粒度引起的寬化效應(yīng)
5.1.2 微觀應(yīng)力（應(yīng)變）引起的寬化效應(yīng)
5.1.3 堆垛層錯引起的寬化效應(yīng)
5.2 微晶·參⒂αα街乜砘·效應(yīng)的分離
5.2.1 近似函數(shù)法和最小二乘方法
5.2.2 方差分解法
5.2.3 傅里葉級數(shù)分離法
5.3 晶粒尺寸及統(tǒng)計(jì)分布
5.4 應(yīng)用實(shí)例
5.4.1 納米NiO的微結(jié)構(gòu)分析
5.4.2 六方β.Ni（OH）2中的微結(jié)構(gòu)
5.5 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)：微觀應(yīng)力與亞晶尺寸的測量
5.5.1 實(shí)驗(yàn)?zāi)康?br />5.5.2 實(shí)驗(yàn)原理
5.5.3 實(shí)驗(yàn)方法與實(shí)例
第6章 X射線衍射物相分析
6.1 定性分析
6.1.1 物相定性分析的理論基礎(chǔ)
6.1.2 粉末衍射卡（PDF）
6.1.3 粉末衍射卡索引
6.1.4 定性分析的方法及步驟
6.2 定量分析
6.2.1 理論基礎(chǔ)
6.2.2 分析方法
6.2.3 存在的問題
6.3 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)：物相定性分析和定量分析
6.3.1 物相定性分析
6.3.2 物相定量分析
第7章 晶體點(diǎn)陣常數(shù)精確測定
7.1 基本原理
7.2 初始點(diǎn)陣參數(shù)的獲得
7.3 點(diǎn)陣常數(shù)測定誤差來源
7.3.1 德拜法中的系統(tǒng)誤差
7.3.2 衍射儀中的系統(tǒng)誤差
7.4 精確測定點(diǎn)陣常數(shù)的方法
7.4.1 定峰方法
7.4.2 圖解外推法
7.4.3 最小二乘方法
7.4.4 標(biāo)準(zhǔn)樣校正法
7.5 點(diǎn)陣常數(shù)精確測定
7.5.1 測角儀固有誤差
7.5.2 測角儀零位面的調(diào)整誤差
7.5.3 試樣表面偏軸誤差
7.5.4 試樣平面性誤差，光束水平與軸向發(fā)散誤差
7.5.5 試樣透明度誤差
7.5.6 測量記錄線路滯后、波動導(dǎo)致的誤差
7.5.7 波長非單色化及色散的影響
7.5.8 波長數(shù)值的影響
7.5.9 羅倫茲?財(cái)?振因子影響
7.5.1 0溫度誤差
7.5.1 1折射誤差
7.5.1 2其他誤差
7.6 實(shí)際應(yīng)用
7.6.1 合金固溶體中溶質(zhì)元素固溶極限的測定
7.6.2 鋼中馬氏體和奧氏體的碳含量測定
7.6.3 單晶樣品點(diǎn)陣常數(shù)的測定
7.7 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)：點(diǎn)陣常數(shù)的精確測量
7.7.1 實(shí)驗(yàn)?zāi)康?br />7.7.2 實(shí)驗(yàn)原理
7.7.3 實(shí)驗(yàn)方法與實(shí)例
第8章 宏觀內(nèi)應(yīng)力測定
8.1 基本原理
8.1.1 應(yīng)力的分類及其X射線衍射效應(yīng)
8.1.2 單軸應(yīng)力測定的原理和方法
8.1.3 平面宏觀應(yīng)力的測定原理
8.2 測定與數(shù)據(jù)處理方法
8.2.1 平面宏觀應(yīng)力的測定方法
8.2.2 應(yīng)力測定的數(shù)據(jù)處理方法
8.2.3 三維應(yīng)力及薄膜應(yīng)力測量
8.3 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)：宏觀內(nèi)應(yīng)力（表面殘余應(yīng)力）的測量
8.3.1 實(shí)驗(yàn)?zāi)康?br />8.3.2 實(shí)驗(yàn)原理
8.3.3 實(shí)驗(yàn)方法與實(shí)例
第9章 織構(gòu)測定
9.1 織構(gòu)分類與表征
9.1.1 織構(gòu)的分類
9.1.2 織構(gòu)的表征方法
9.2 極圖與反極圖的測定分析
9.2.1 極圖的測定分析
9.2.2 反極圖的測定分析
9.3 取向分布函數(shù)
9.4 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)：織構(gòu)的測定
9.4.1 實(shí)驗(yàn)?zāi)康?br />9.4.2 實(shí)驗(yàn)原理
9.4.3 實(shí)驗(yàn)方法與實(shí)例
第10章 Rietveld結(jié)構(gòu)精修
10.1 發(fā)展歷程
10.2 基本原理
10.2.1 峰位計(jì)算
10.2.2 結(jié)構(gòu)因子和強(qiáng)度分布
10.2.3 整體衍射譜計(jì)算
10.2.4 最小二乘法擬合
10.2.5 擬合誤差判別
10.3 測試方法
10.4 分析應(yīng)用
10.4.1 從頭計(jì)算晶體結(jié)構(gòu)
10.4.2 X射線物相分析
10.4.3 測定晶粒大小和微應(yīng)變
附錄
附錄1 常用射線管K系輻射波長以及相關(guān)工作參數(shù)
附錄2 質(zhì)量吸收系數(shù)（μm=μl/ρ）（單位為cm2/g）
附錄3 原子散射因子（Cromer解析式）
附錄4 德拜溫度Θ
附錄5 德拜函數(shù)［（.（x）/x+1/4］
參考文獻(xiàn)