離子膜燒堿控制技術

第1章 緒論
1.1 氯堿工業(yè)概況及特點
1.1.1 氯堿工業(yè)概況
1.1.2 我國氯堿工業(yè)特點
1.2 離子膜燒堿裝置主要設備簡介
1.2.1 一次鹽水精制主要設備
1.2.2 二次鹽水精制主要設備
1.2.3 電解主要設備
1.2.4 氯氫處理主要設備
1.2.5 氯化氫合成與高純鹽酸的主要設備
1.2.6 氯氣液化及包裝主要設備
1.2.7 蒸發(fā)及固堿主要設備
1.3 離子膜燒堿裝置控制現(xiàn)狀

第2章 離子膜燒堿工藝及控制要求
2.1 一次鹽水精制
2.1.1 一次鹽水精制反應原理
2.1.2 一次鹽水精制工藝簡介
2.1.3 一次鹽水精制控制要求
2.2 二次鹽水精制
2.2.1 二次鹽水精制反應原理
2.2.2 二次鹽水精制工藝簡介
2.2.3 二次鹽水精制控制要求
2.3 電解及脫氯
2.3.1 電解及脫氯反應原理
2.3.2 電解及脫氯工藝簡介
2.3.3 電解及脫氯控制要求
2.4 氯氫處理
2.4.1 氯氫處理化學原理
2.4.2 氯氫處理工藝簡介
2.4.3 氯氫處理控制要求
2.5 鹽酸合成
2.5.1 鹽酸合成化學原理
2.5.2 鹽酸合成工藝簡介
2.5.3 鹽酸合成控制要求
2.6 燒堿蒸發(fā)與固堿
2.6.1 燒堿蒸發(fā)與固堿化學原理
2.6.2 燒堿蒸發(fā)與片堿工藝簡介
2.6.3 燒堿蒸發(fā)與片堿控制要求

第3章 離子膜燒堿控制方案
3.1 單回路控制系統(tǒng)
3.2 主要復雜控制回路
3.2.1 進電解槽鹽水流量的控制
3.2.2 電解槽加酸量的控制
3.2.3 淡鹽水循環(huán)流量控制
3.2.4 電解槽出口總管氯氣氫氣的差壓控制
3.2.5 陰極液加水（堿濃度）的控制
3.2.6 電解槽電流的升降及其控制
3.2.7 氯壓機的控制
3.2.8 鹽酸合成與燒堿蒸發(fā)的控制
3.3 DCS對樹脂塔的程序順控方案
3.3.1 樹脂塔工藝簡述
3.3.2 離子交換樹脂塔的操作程序
3.3.3 報警和聯(lián)鎖
3.3.4 斷電時的操作
3.3.5 閥門聯(lián)鎖
3.4 電解槽槽電壓檢測方案
3.4.1 單元槽電壓的構成
3.4.2 槽電壓檢測難點及常規(guī)檢測方案
3.4.3 MACS系統(tǒng)對槽電壓的檢測方案
3.4.4 槽電壓檢測針孔探測器的功能
3.5 安全聯(lián)鎖控制方案
3.5.1 電解聯(lián)鎖控制方案
3.5.2 整流全停聯(lián)鎖方案
3.5.3 電解極化電源聯(lián)鎖方案
3.5.4 氯壓機聯(lián)鎖方案
3.5.5 蒸發(fā)聯(lián)鎖
3.5.6 其他聯(lián)鎖

第4章 離子膜燒堿儀表
4.1 溫度儀表
4.1.1 溫度檢測儀表的分類
4.1.2 測溫儀表的性能特點
4.1.3 測溫儀表的選用原則
4.1.4 離子膜裝置中的測溫儀表
4.1.5 測溫原件及儀表的安裝
4.2 壓力儀表
4.2.1 壓力的概念、單位及表示方法
4.2.2 常用的壓力檢測儀表
4.2.3 壓力檢測儀表的選用
4.2.4 離子膜裝置中的壓力儀表
4.2.5 壓力表、變送器的安裝
4.3 流量儀表
4.3.1 流量檢測概述
4.3.2 流量儀表的分類
4.3.3 常用流量儀表選型
4.3.4 離子膜裝置中的流量儀表
4.3.5 流量儀表的安裝
4.4 物位儀表
4.4.1 物位的概念及物位檢測意義
4.4.2 物位儀表的分類
4.4.3 常用物位檢測儀表的選用
4.4.4 離子膜裝置中的物位儀表
4.4.5 物位儀表的安裝
4.5 分析儀表
4.5.1 分析儀表的分類
4.5.2 分析儀表的一般組成
4.5.3 分析儀表的選型
4.5.4 離子膜裝置中的分析儀表
4.6 執(zhí)行器
4.6.1 調節(jié)閥的組成及分類
4.6.2 調節(jié)閥的選擇
4.6.3 閥門附件
4.6.4 離子膜裝置中的執(zhí)行器
4.6.5 調節(jié)閥的安裝和維護
4.7 爆炸危險場所儀表電器安全
4.7.1 爆炸性氣體環(huán)境危險區(qū)域劃分
4.7.2 爆炸性氣體混合物的分類、分級、分組
4.7.3 爆炸性氣體環(huán)境儀表電氣設備的選型
4.7.4 爆炸危險場所儀表電器安全
4.7.5 安全柵

第5章 離子膜工程DCS硬件配置方案
5.1 DCS硬件系統(tǒng)簡介
5.1.1 DCS系統(tǒng)定義
5.1.2 DCS系統(tǒng)結構
5.1.3 DCS系統(tǒng)功能
5.1.4 國內(nèi)常見DCS廠商及品牌
5.2 和利時（Hollysys）公司的MACS系統(tǒng)
5.2.1 HOLLiAS MACS分布式控制系統(tǒng)概述
5.2.2 MACSS系統(tǒng)整體結構
5.3 離子膜燒堿裝置DCS硬件配置方案
5.3.1 和利時DCS在氯堿鹽化工行業(yè)應用情況
5.3.2 SM現(xiàn)場控制站硬件產(chǎn)品簡介及其配置要點
5.3.3 DCS系統(tǒng)輸入-輸出測點統(tǒng)計
5.3.4 I-O模塊的配置
5.3.5 控制柜成套設計
5.3.6 離子膜燒堿裝置操作站硬件配置
5.3.7 系統(tǒng)網(wǎng)絡設計
5.3.8 系統(tǒng)供電設計
5.4 輔助機柜盤臺布置與接線圖
5.4.1 盤面布置圖
5.4.2 柜內(nèi)接線圖
5.5 DCS系統(tǒng)柜布置與接線圖
5.5.1 柜內(nèi)布置圖
5.5.2 外部接線圖

第6章 離子膜工程DCS軟件組態(tài)編程
6.1 DCS的軟件體系
6.1.1 現(xiàn)場控制站的軟件系統(tǒng)
6.1.2 操作站的軟件系統(tǒng)
6.1.3 MACS Ⅴ系統(tǒng)軟件的組成及功能
6.2 DCS的組態(tài)方法
6.2.1 組態(tài)軟件主要解決的問題
6.2.2 組態(tài)的內(nèi)容
6.2.3 MACS Ⅴ系統(tǒng)軟件組態(tài)步驟
6.3 離子膜燒堿裝置控制工程組態(tài)
6.3.1 新建工程
6.3.2 工程畫面組態(tài)
6.3.3 設備組態(tài)
6.3.4 數(shù)據(jù)庫的編輯及編譯
6.3.5 報表組態(tài)
6.3.6 服務器算法組態(tài)
6.3.7 生成控制器算法工程
6.4 離子膜燒堿裝置控制器算法組態(tài)
6.4.1 控制器算法組態(tài)概述
6.4.2 控制器算法軟件及功能
6.4.3 單回路控制系統(tǒng)組態(tài)
6.4.4 聯(lián)鎖及主要復雜控制回路組態(tài)
6.4.5 樹脂塔順控方案組態(tài)

第7章 離子膜燒堿整流
7.1 離子膜整流系統(tǒng)的組成及工作原理
7.1.1 整流系統(tǒng)組成
7.1.2 整流系統(tǒng)工作原理
7.2 整流系統(tǒng)設計
7.2.1 整流裝置主要參數(shù)計算
7.2.2 整流柜內(nèi)部元件的選取及制造要求
7.2.3 整流柜的保護措施
7.2.4 晶閘管整流裝置控制柜
7.2.5 計算機監(jiān)控系統(tǒng)
7.2.6 極化整流器
7.3 整流器輔助設備
7.3.1 整流變壓器
7.3.2 純水冷卻裝置
7.3.3 直流母線式大電流隔離器
7.3.4 直流大電流傳感器
7.4 整流所的常見事故類型及處理
7.4.1 整流工段易出現(xiàn)的故障類型
7.4.2 整流裝置的運行管理
7.4.3 整流工段可能出現(xiàn)的異常情況及事故處理
7.4.4 整流變壓器的運行管理及檢修維護
7.4.5 整流變壓器可能出現(xiàn)的異常情況及事故處理
7.4.6 整流高壓開關柜的運行管理
附錄1 ××××公司20萬噸-年離子膜燒堿項目DCS控制系統(tǒng)招標文件
附錄2 DCS系統(tǒng)主要供應商及其產(chǎn)品介紹
附錄3 離子膜燒堿裝置數(shù)據(jù)庫IO表
附錄4 現(xiàn)場控制站機柜布置與接線圖
參考文獻