透射電鏡中電子磁手性二向色性技術的研究

目錄




第1章引言

1.1研究背景及選題意義

1.2EMCD技術

1.2.1EMCD技術的基本原理

1.2.2EMCD技術的發(fā)展及應用

1.2.3EMCD技術與XMCD技術的比較

1.3EMCD衍射幾何中光闌位置的說明

1.4透射電鏡中的其他磁性表征技術

1.5本書的選題和研究內容

1.5.1EMCD技術中存在的問題和需要發(fā)展的方向

1.5.2本書的研究內容



第2章EMCD技術定量磁參數(shù)測量的一般方法


2.1本章引論

2.2占位分辨EMCD技術的局限性

2.3定量EMCD技術磁參數(shù)測量的一般框架

2.4衍射動力學效應與EMCD技術

2.4.1衍射動力學效應

2.4.2衍射動力學效應與EMCD技術的理論框架

2.5三束衍射幾何的不對稱性

2.5.1不對稱性的來源

2.5.2三束條件下不對稱性的分布

2.5.3不對稱性對定量磁參數(shù)測量的影響

2.6定量磁參數(shù)測量的一般方法

2.6.1YIG晶體結構的分析

2.6.2尋找衍射條件的一般方法

2.6.3實驗衍射幾何的優(yōu)化和光闌位置的選擇

2.6.4EMCD信號的實驗采集

2.6.5本征磁信號的提取

2.6.6占位分辨EELS信號的提取

2.6.7定量磁參數(shù)的計算及誤差分析

2.7正帶軸衍射幾何下的EMCD技術

2.7.1正帶軸衍射幾何的問題和優(yōu)勢

2.7.2材料體系的選擇

2.7.3理論模擬

2.7.4實驗結果與討論

2.7.5正帶軸衍射幾何下的占位分辨技術

2.7.6正帶軸衍射幾何下幾點需要說明的問題

2.8本章小結



第3章EMCD技術本征磁信號的測量


3.1本章引論

3.2EMCD技術面內磁信號探測的基本原理

3.2.1基本原理

3.2.2理論模擬

3.2.3衍射幾何與信號的分離

3.3實驗設計與結果

3.3.1樣品選擇和實驗條件

3.3.2實驗結果與討論

3.4面內EMCD技術中幾點需要說明的問題

3.4.1面內EMCD技術的衍射幾何

3.4.2洛倫茲模式與EMCD技術結合中的問題

3.4.3面內EMCD技術與其他實驗設置的結合

3.5本章小結



第4章協(xié)同表征下高空間分辨EMCD技術的應用

4.1本章引論

4.2YIGPt界面自旋流的研究

4.2.1自旋流

4.2.2YIGPt界面自旋流輸運性質的研究

4.3YIGPt界面性質的研究

4.3.1界面無序結構對自旋流輸運的影響

4.3.2界面化學成分和電子結構

4.3.3YIGPt的界面磁性質

4.4本章小結



第5章透射電鏡中的其他磁性表征技術


5.1本章引論

5.2Skyrmion

5.2.1Skyrmion及其基本性質

5.2.2限域幾何中的skyrmion

5.3洛倫茲成像技術及應用

5.3.1基本原理

5.3.2TIE方法

5.3.3納米條帶中skyrmion的洛倫茲表征

5.4電子全息技術

5.4.1基本原理

5.4.2相位分離方法

5.4.3Skyrmion納米條帶中邊緣態(tài)的研究

5.5透射電鏡中幾種磁性表征方法的比較

5.6本章小結



第6章結論與展望

6.1結論

6.2展望



參考文獻


附錄AEMCD中關于非彈性電子散射的理論計算


在學期間發(fā)表的學術論文


致謝