低溫等離子體的產生與等離子體工藝：問題與前景

第1篇關于米哈伊爾·費奧多羅維奇·
茹科夫的回憶
第1章人物、年代、結論

［М·Ф·茹科夫（М.Ф.Жуков］9

第2章對老師和朋友的回憶

——對崇高的米哈伊爾·費奧多羅維奇·茹科夫的回憶

［В·М·福明（В.М.Фомин），

Б·А·烏留科夫（Б.А.Урюков），

Г·А·久熱夫（Г.А.Дюжев），

А·С·安沙科夫（А.С.Аньшаков），

Э·К·烏爾巴赫（Э.К.Урбах），

В·П·薩布羅夫（В.П.Сабуров），

Б·С·葉列波夫（Б.С.Елепов），

И·М·扎瑟普金（И.М.Засыпкин），

А·Н·季莫舍夫斯基（А.Н.Тимошевский）］20

第2篇低溫等離子體發(fā)生器

第3章等離子體發(fā)生器中湍流理論的若干問題

［Б·А·烏留科夫（Б.А.Урюков）］41

3.1用電弧使湍流層流化41

3.2電弧長度自調節(jié)的等離子體發(fā)生器理論45

第4章電弧等離子體發(fā)生器中陰極表面自恢復的數(shù)學模擬

［А·Д·雷奇科夫（А.Д.Рычков），

Х·米洛舍維奇（Х.Милошевич），

А·Н·季莫舍夫斯基（А.Н.Тимошевский），

В·В·薩洛馬托夫（В.В.Саломатов）］51

引言51

4.1數(shù)學模型52

4.2計算結果56

結論61

第5章陽極部件的電弧等離子體特性的數(shù)值分析

［Э·Б·庫倫巴耶夫（Э.Б.Кулумбаев）,

В·М·列列夫金（В.М.Лелевкин）］62

引言62

5.1模型63

5.2計算方法66

5.3陽極部件的等離子體特性計算74

結論83

第6章電弧放電時陰極上的電流與熱交換

［Х·Ц·扎亞圖耶夫（Х.Ц.Заятуев）］84

引言84

6.1在“異常”發(fā)射工況下熱發(fā)射陰極工作的基本

實驗規(guī)律86

6.2從金屬到等離子體的電子發(fā)射，平衡的發(fā)射電流

密度與電子逸出功91

6.3陰極上的合成電流密度93

6.4熱發(fā)射陰極上的能量平衡，近陰極電位降97

結論100

第7章電弧水蒸氣等離子體的產生

［Б·И·米哈伊洛夫（Б.И.Михайлов）］102

7.1水蒸氣等離子體性能的異常特性102

7.2電弧水蒸氣等離子體發(fā)生器原理圖的分析105

7.3蒸汽渦流等離子體炬工作的特點109

7.4水蒸氣渦流等離子體炬穩(wěn)定工作的條件111

7.5水蒸氣渦流等離子體炬的廣義能量特性121

7.6水蒸氣等離子體的實際應用131

結論141

第8章各種方案的四氟甲烷等離子體炬的熱特性與動力特性

［А·Н·季莫舍夫斯基（А.Н.Тимошевский），

В·С·蓬克拉托夫（В.С.Понкратов）］143

8.1直線型等離子體炬的研究143

8.2V型等離子體炬的研究147

第9章高頻放電等離子體物理研究及其實際應用

［И·А·季霍米羅夫（И.А.Тихомиров），

В·А·弗拉索夫（В.А.Власов）］150

9.1高頻-放電等離子體物理150

9.2高頻-放電等離子體和等離子體中所發(fā)生

過程的診斷158

9.3高頻放電在實際中的應用162

第10章高頻氬-硅烷等離子體的化學成分模擬

［В·И·斯特魯寧（В.И.Струнин），

А·А·利亞霍夫（А.А.Ляхов），

Г·Ж·胡代別爾格諾夫（Г.Ж.Худайбергенов），

В·И·什庫爾金（В.И.Шкуркин）］165

結論170

第11章超聲速氣流輝光放電等離子體發(fā)生器

［И·Г·加列耶夫（И.Г.Галеев），

Г·Ю·道托夫（Г.Ю.Даутов），

З·Х·伊斯拉菲洛夫（З.Х.Исрафилов），

Б·А·季梅爾卡耶夫（Б.А.Тимеркаев）］171


第3篇等離子體工藝過程

第12章富勒烯和低溫等離子體

［Г·А·久熱夫（Г.А.Дюжев）］189

12.1富勒烯是什么？簡短的歷史189

12.2為什么富勒烯會引起如此巨大的興趣？191

12.3怎樣獲得富勒烯？193

12.4在電弧放電中形成富勒烯197

12.5實驗研究結果200

12.6什么是含富勒烯的碳黑？207

12.7富勒烯生成過程的理論研究213

第13章等離子體炬在超聲速氣流控制研究中的應用

［В·М·福明（В.М.Фомин），

А·А·馬斯洛夫（А.А.Маслов），

В·П·福米切夫（В.П.Фомичев），

Б·А·波茲尼亞科夫（Б.А.Поздняков），

Г·А·波茲尼亞科夫（Г.А.Поздняков），

Б·В·波斯特尼科夫（Б.В.Постников）］216

13.1模型217

13.2等離子體發(fā)生器220

13.3實驗結果222

13.4模型的超高聲速繞流225

13.5實驗方法231

13.6實驗結果233

13.7測量結果比較237

13.8實驗結果與數(shù)值結果的比較239

第14章等離子體涂層噴涂的成就

［В·С·克盧布尼金（В.С.Клубникин）］244

14.1傳統(tǒng)的等離子體噴涂245

14.2空氣等離子體噴涂245

14.3內部等離子體噴涂247

14.4超聲速等離子體噴涂248

14.5多弧等離子體噴涂250

結論250

第15章等離子體噴涂時熔融物液滴與基底互撞的熱物理，

理論與模型試驗

［О·П·索洛年科（О.П.Солоненко），

А·В·斯米爾諾夫（А.В.Смирнов），

А·А·米哈利琴科（А.А.Михальченко），

Е·В·卡爾塔耶夫（Е.В.Картаев）］251

引言251

15.1物理模型裝置254

15.2金屬氧化物“滴液”形成的理論基礎259

15.3部分穩(wěn)定的二氧化鋯(YSZ)“液滴”在金屬

基底上的形成264

結論275

第16章氮化硼合成與應用領域的新高潮

［В·А·涅羅諾夫（В.А.Неронов），

В·А·葉梅利金（В.А.Емелькин）］276

16.1氮化硼的一般資料及立方體氮化硼在低壓下的