專利是常見的技術表現(xiàn)形式,對專利質量的分析有助于揭示技術創(chuàng)新過程中的科學規(guī)律?!吨R特征對專利質量的影響研究/青年學者文叢》用理論分析和實證研究相結合的方法,以專利體系中小的、不可再細分的知識單元為分析對象,打開技術創(chuàng)新過程的“黑箱”,研究知識單元特征影響專利質量的機制和效果,為現(xiàn)有的技術創(chuàng)新管理研究和實踐提供重要的補充和指導。《知識特征對專利質量的影響研究/青年學者文叢》可供技術創(chuàng)新、情報學等領域關注技術創(chuàng)新管理、技術評估和預測等問題的研究人員、學生、企業(yè)員工或管理人員閱讀參考。