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當(dāng)前位置: 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)無線電電子學(xué)、電信技術(shù)透射電子顯微學(xué)(下冊(cè))

透射電子顯微學(xué)(下冊(cè))

透射電子顯微學(xué)(下冊(cè))

定 價(jià):¥129.00

作 者: David B.Williams,C.Barry ... 著
出版社: 高等教育出版社
叢編項(xiàng):
標(biāo) 簽: 暫缺

ISBN: 9787040524130 出版時(shí)間: 1900-01-01 包裝: 精裝
開本: 16開 頁數(shù): 736 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  本書對(duì)透射電子顯微鏡的構(gòu)造、實(shí)驗(yàn)技術(shù)的原理和應(yīng)用進(jìn)行了詳細(xì)介紹。第二版已對(duì)第一版內(nèi)容進(jìn)行了修訂和更新。解釋了為什么需要用到這一特殊的技術(shù)以及如何將這一特定概念運(yùn)用到實(shí)踐中。全書分為上下兩冊(cè),共4篇,總計(jì)40章。第一篇主要介紹一些與透射電子顯微鏡相關(guān)的基本概念,包括電子衍射的基礎(chǔ)知識(shí)、儀器的構(gòu)造與功能,以及透射電子顯微鏡樣品的制備等。第二篇主要介紹電子衍射的基本原理、不同的電子衍射實(shí)驗(yàn)技術(shù),以及對(duì)電子衍射的理論描述。第三篇主要介紹成像的基本原理和各種成像類型、不同的成像技術(shù),以及對(duì)實(shí)驗(yàn)圖像的處理、分析和理論模擬。第四篇主要介紹X射線能譜和電子能量損失譜的基本原理和應(yīng)用,以及與之相關(guān)的各種實(shí)驗(yàn)技術(shù)。全書有近700張圖表,在英文版中全為彩圖,而在中譯本中大部分為黑白圖,但并不影響所表達(dá)的意思。中譯本將全書分成上下兩冊(cè),即將英文版的第一篇和第二篇作為上冊(cè),將第三篇和第四篇作為下冊(cè)。 本書可作為高等院校高年級(jí)本科生和研究生的教材,也可作為從事電子顯微學(xué)分析等相關(guān)領(lǐng)域研究人員的參考用書。

作者簡介

暫缺《透射電子顯微學(xué)(下冊(cè))》作者簡介

圖書目錄

第三篇 成像原理
第22章 振幅襯度
章節(jié)預(yù)覽
22.1 什么是襯度?
22.2 振幅襯度
22.2.1 圖像和衍射花樣
22.2.2 物鏡光闌和sTEM探頭的使用:明場像和暗場像
22.3 質(zhì)-厚襯度
22.3.1 質(zhì)-厚襯度的原理
22.3.2 TEM圖像
22.3.3 STEM圖像
22.3.4 質(zhì)-厚襯度樣品
22.3.5 定量質(zhì)-厚襯度
22.4 Z襯度
22.5 TEM衍射襯度
22.5.1 雙束條件
22.5.2 設(shè)置偏離參量s
22.5.3 拍攝雙束CDF圖像
22.5.4 圖像和衍射花樣的關(guān)系
22.6 STEM衍射襯度
章節(jié)總結(jié)
參考文獻(xiàn)
自測(cè)題
章節(jié)具體問題
第23章 相位襯度成像
章節(jié)預(yù)覽
23.1 介紹
23.2 晶格條紋像的起源
23.3 晶格條紋像的實(shí)踐觀察
23.3.1 s=0的情況
23.3.2 s≠0的情況
23.4 正帶軸晶格條紋像
23.5 莫爾條紋
23.5.1 平移莫爾條紋
23.5.2 旋轉(zhuǎn)莫爾條紋
23.5.3 一般莫爾條紋
23.6 實(shí)驗(yàn)觀察莫爾條紋
23.6.1 平移莫爾條紋
23.6.2 旋轉(zhuǎn)莫爾條紋
23.6.3 位錯(cuò)和莫爾條紋
23.6.4 復(fù)雜莫爾條紋
23.7 菲涅耳襯度
23.7.1 菲涅耳雙棱鏡
23.7.2 磁疇壁
23.8 孔洞或氣泡的菲涅耳襯度
23.9 晶格缺陷的菲涅耳襯度
23.9.1 晶界
23.9.2 露頭位錯(cuò)
章節(jié)總結(jié)
參考文獻(xiàn)
自測(cè)題
章節(jié)具體問題
第24章 厚度效應(yīng)和彎曲效應(yīng)
章節(jié)預(yù)覽
24.1 基本原理
24.2 厚度條紋
24.3 厚度條紋和衍射花樣(DP)
24.4 彎曲輪廓(討厭的瑕疵、有用的工具、珍貴的觀點(diǎn))
24.5 ZAP和實(shí)空間晶體學(xué)
24.6 凸起、凹陷和鞍狀彎曲
24.7 吸收效應(yīng)
24.8 厚度條紋的計(jì)算機(jī)模擬
……
第四篇 能譜分析
索引

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