液晶基多模控光成像探測(cè)

第1章緒論(1)
1.1焦平面成像探測(cè)(1)
1.2控制成像探測(cè)的光波參量(8)
第2章電控液晶微透鏡陣列(12)
2.1引言(12)
2.2液晶的基本物性(12)
2.2.1液晶類(lèi)型(12)
2.2.2序參數(shù)(14)
2.2.3介電各向異性(14)
2.2.4液晶雙折射(15)
2.2.5黏滯系數(shù)(16)
2.2.6彈性連續(xù)體理論(16)
2.2.7邊界效應(yīng)(18)
2.3功能化液晶的指向矢計(jì)算(19)
2.3.1迭代方程組數(shù)值化(24)
2.3.2邊界條件(24)
2.3.3程序流程圖(25)
2.3.4仿真架構(gòu)(26)
2.4電控液晶微光學(xué)結(jié)構(gòu)(44)
2.5電控液晶透鏡與微透鏡(50)
2.5.1研究進(jìn)展情況(50)
2.5.2典型屬性與特征(58)
2.6小結(jié)(62)
第3章液晶基波前成像探測(cè)(64)
3.1引言(64)
3.2局域子波前測(cè)量與目標(biāo)波前還原(64)
3.2.1SH波前測(cè)量法(65)
3.2.2液晶基波前成像測(cè)量法(66)
3.3用于波前測(cè)量的面陣電控液晶微透鏡(67)
3.4譜圖像的分解與融合(70)
3.5液晶基波前成像(82)
3.6小結(jié)(84)
第4章基于波前成像的景深擴(kuò)展(85)
4.1引言(85)
4.2波前成像中的圖像模糊問(wèn)題(85)
4.3液晶基波前成像景深特征(88)
4.4基于電控液晶微透鏡擴(kuò)展波前成像景深(92)
4.5小結(jié)(112)
第5章基于波前成像的物空間深度測(cè)量(113)
5.1引言(113)
5.2波前成像物空間深度不敏感性(113)
5.3基于液晶基波前成像的物空間深度測(cè)量(118)
5.3.1液晶基波前光學(xué)成像探測(cè)系統(tǒng)測(cè)量物空間深度(118)
5.3.2基于Sobel梯度算子評(píng)估圖像清晰度(120)
5.4物空間深度標(biāo)定與評(píng)估(121)
5.4.1物空間深度標(biāo)定(121)
5.4.2物空間深度測(cè)量評(píng)估(132)
5.5小結(jié)(133)
第6章液晶基光場(chǎng)成像探測(cè)(134)
6.1引言(134)
6.2常規(guī)三維成像(134)
6.3光場(chǎng)成像(136)
6.4用于光場(chǎng)成像的電控液晶微透鏡陣列(143)
6.4.1單元液晶微透鏡(146)
6.4.2加載不同信號(hào)均方根電壓的液晶微透鏡(148)
6.4.3液晶厚度不同的微透鏡(149)
6.4.4關(guān)鍵性工藝步驟(151)
6.5液晶基電控景深光場(chǎng)成像(153)
6.5.1電控光場(chǎng)成像建模(154)
6.5.2圖像的光場(chǎng)表征(156)
6.5.3電控光場(chǎng)成像的光學(xué)結(jié)構(gòu)配置(159)
6.5.4電控光場(chǎng)成像景深特征(164)
6.6液晶基光場(chǎng)相機(jī)(166)
6.7光場(chǎng)圖像的加工處理與渲染(170)
6.8小結(jié)(174)
第7章基于電控光場(chǎng)成像的運(yùn)動(dòng)參數(shù)測(cè)量(175)
7.1引言(175)
7.2電控光場(chǎng)成像的三維投影模型(175)
7.3虛物點(diǎn)深度估算與深度分辨率(181)
7.4液晶基光場(chǎng)相機(jī)的標(biāo)定特征(183)
7.5運(yùn)動(dòng)參數(shù)測(cè)量與評(píng)估(187)
7.5.1運(yùn)動(dòng)參數(shù)計(jì)算(187)
7.5.2運(yùn)動(dòng)參數(shù)的實(shí)驗(yàn)測(cè)量(190)
7.6小結(jié)(191)
第8章液晶基光場(chǎng)與平面一體化成像(192)
8.1引言(192)
8.2雙模一體化成像系統(tǒng)設(shè)計(jì)(192)
8.3雙模一體化相機(jī)(196)
8.4高分辨率三維圖像重建(201)
8.4.1六種度量值計(jì)算方法(202)
8.4.2清晰度評(píng)價(jià)函數(shù)(204)
8.5液晶基光場(chǎng)相機(jī)原型(206)
8.5.1近景成像用液晶基光場(chǎng)相機(jī)(206)
8.5.2遠(yuǎn)景成像用液晶基光場(chǎng)相機(jī)(208)
8.6毫秒/亞毫秒數(shù)量級(jí)的圖像渲染耗時(shí)(214)
8.7物空間的液晶基可尋址加電層析成像(215)
8.8小結(jié)(219)
第9章紅外光場(chǎng)成像的石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(220)
9.1引言(220)
9.2石墨烯電極的轉(zhuǎn)移制備(220)
9.2.1機(jī)械剝離法(221)
9.2.2外延生長(zhǎng)法(221)
9.2.3化學(xué)氣相沉積法(221)
9.2.4氧化還原法(222)
9.3基于石墨烯電極的紅外液晶微透鏡陣列(224)
9.4液晶的單晶石墨烯誘導(dǎo)定向(229)
9.4.1單晶石墨烯誘導(dǎo)的液晶初始定向特征(229)
9.4.2單晶石墨烯的液晶定向特征(235)
9.4.3單晶石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(239)
9.5小結(jié)(252)
第10章液晶基偏振成像探測(cè)(253)
10.1引言(253)
10.2偏振成像基本特征(253)
10.2.1光學(xué)旋轉(zhuǎn)器(255)
10.2.2相位延遲器(255)
10.3偏振光場(chǎng)成像(259)
10.4偏振光場(chǎng)成像用電控液晶微透鏡陣列(270)
10.4.1基片與電極(271)
10.4.2石墨烯轉(zhuǎn)移(271)
10.4.3涂布光刻膠與曝光(271)
10.4.4蝕刻(271)
10.4.5液晶器件化(271)
10.4.6測(cè)試與評(píng)估(272)
10.5層疊耦合正交偏振液晶微透鏡(273)
10.6偏振與偏振不敏感光場(chǎng)成像(284)
10.7小結(jié)(288)
第11章基于扭曲向列相液晶的偏振光場(chǎng)成像(289)
11.1引言(289)
11.2扭曲向列相電控液晶微透鏡(290)
11.2.1扭曲向列相液晶微透鏡的典型控光過(guò)程(290)
11.2.2扭曲向列相液晶微透鏡的典型工作模式(291)
11.3偏振差分去霧成像(294)
11.4偏振光場(chǎng)與平面成像一體化去霧(297)
11.5小結(jié)(308)
第12章石墨烯基電控液晶微透鏡與偏振光場(chǎng)成像(309)
12.1引言(309)
12.2單晶石墨烯制備與表征(310)
12.2.1單晶Cu(111)晶膜制備(312)
12.2.2單晶石墨烯制備(313)
12.2.3單晶石墨烯表征(313)
12.3液晶石墨烯定向(315)
12.4石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(318)
12.5偏振光場(chǎng)成像景深特征(322)
12.6紅外液晶微透鏡(330)
12.7小結(jié)(339)
參考文獻(xiàn)(340)