液晶基多模控光成像探測

定　價：￥158.00

作　者：	張新宇，佟慶，雷宇，信釗煒著
出版社：	華中科技大學出版社
叢編項：	航天航空導航制導圖像信息技術與系統(tǒng)研究叢書
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787568037778	出版時間：	2021-09-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	365	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書共十二章：第一章綜述了焦平面成像探測技術的發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢；第二章討論了電控液晶微光學結(jié)構(gòu)包括微透鏡陣列的基本特征；第三章分析了液晶基波前成像探測的基本屬性；第四章研究了基于波前成像的景深擴展基本問題；第五章主要開展了基于波前成像的物空間深度測量方法研究；第六章論述了液晶基光場成像探測的基本屬性與特征；第七章主要進行了基于電調(diào)光場成像的運動參數(shù)測量方面的關鍵問題；第八章主要針對液晶基光場與平面一體化成像問題開展基礎性研究；第九章主要涉及紅外光場成像用石墨烯基電控液晶微透鏡陣列的基本特性；第十章討論了液晶基偏振成像探測的基本屬性與特征；第十一章論述了基于扭曲向列相液晶的偏振光場成像屬性基本問題；第十二章主要開展了石墨烯基電控液晶微透鏡與偏振光場成像方面的基礎方法研究。

作者簡介

　　張新宇（博士/教授/博導），1986年畢業(yè)于“長春光學精密機械學院”紅外技術專業(yè)（工學學士）。同年分配至“中國兵器工業(yè)第203研究所”從事制導技術研究。1992年考入“華中理工大學”凝聚態(tài)物理專業(yè)攻讀碩士學位，1995年畢業(yè) （理學碩士）。同年9月考入“華中理工大學”物理電子學與光電子學專業(yè)攻讀博士學位，1999年畢業(yè)（工學博士）。 2000-2002年在“華中科技大學”外存儲系統(tǒng)國家專業(yè)實驗室作第一站博后，2002-2003年在荷蘭“Delft University of Technology”作第二站博后。2004年進入“華中科技大學”工作，已指導畢業(yè)博碩士研究生近四十人。目前正負責多項預研課題研究，在研科研經(jīng)費數(shù)百萬元。

圖書目錄

第1章緒論(1)
1.1焦平面成像探測(1)
1.2控制成像探測的光波參量(8)
第2章電控液晶微透鏡陣列(12)
2.1引言(12)
2.2液晶的基本物性(12)
2.2.1液晶類型(12)
2.2.2序參數(shù)(14)
2.2.3介電各向異性(14)
2.2.4液晶雙折射(15)
2.2.5黏滯系數(shù)(16)
2.2.6彈性連續(xù)體理論(16)
2.2.7邊界效應(18)
2.3功能化液晶的指向矢計算(19)
2.3.1迭代方程組數(shù)值化(24)
2.3.2邊界條件(24)
2.3.3程序流程圖(25)
2.3.4仿真架構(gòu)(26)
2.4電控液晶微光學結(jié)構(gòu)(44)
2.5電控液晶透鏡與微透鏡(50)
2.5.1研究進展情況(50)
2.5.2典型屬性與特征(58)
2.6小結(jié)(62)
第3章液晶基波前成像探測(64)
3.1引言(64)
3.2局域子波前測量與目標波前還原(64)
3.2.1SH波前測量法(65)
3.2.2液晶基波前成像測量法(66)
3.3用于波前測量的面陣電控液晶微透鏡(67)
3.4譜圖像的分解與融合(70)
3.5液晶基波前成像(82)
3.6小結(jié)(84)
第4章基于波前成像的景深擴展(85)
4.1引言(85)
4.2波前成像中的圖像模糊問題(85)
4.3液晶基波前成像景深特征(88)
4.4基于電控液晶微透鏡擴展波前成像景深(92)
4.5小結(jié)(112)
第5章基于波前成像的物空間深度測量(113)
5.1引言(113)
5.2波前成像物空間深度不敏感性(113)
5.3基于液晶基波前成像的物空間深度測量(118)
5.3.1液晶基波前光學成像探測系統(tǒng)測量物空間深度(118)
5.3.2基于Sobel梯度算子評估圖像清晰度(120)
5.4物空間深度標定與評估(121)
5.4.1物空間深度標定(121)
5.4.2物空間深度測量評估(132)
5.5小結(jié)(133)
第6章液晶基光場成像探測(134)
6.1引言(134)
6.2常規(guī)三維成像(134)
6.3光場成像(136)
6.4用于光場成像的電控液晶微透鏡陣列(143)
6.4.1單元液晶微透鏡(146)
6.4.2加載不同信號均方根電壓的液晶微透鏡(148)
6.4.3液晶厚度不同的微透鏡(149)
6.4.4關鍵性工藝步驟(151)
6.5液晶基電控景深光場成像(153)
6.5.1電控光場成像建模(154)
6.5.2圖像的光場表征(156)
6.5.3電控光場成像的光學結(jié)構(gòu)配置(159)
6.5.4電控光場成像景深特征(164)
6.6液晶基光場相機(166)
6.7光場圖像的加工處理與渲染(170)
6.8小結(jié)(174)
第7章基于電控光場成像的運動參數(shù)測量(175)
7.1引言(175)
7.2電控光場成像的三維投影模型(175)
7.3虛物點深度估算與深度分辨率(181)
7.4液晶基光場相機的標定特征(183)
7.5運動參數(shù)測量與評估(187)
7.5.1運動參數(shù)計算(187)
7.5.2運動參數(shù)的實驗測量(190)
7.6小結(jié)(191)
第8章液晶基光場與平面一體化成像(192)
8.1引言(192)
8.2雙模一體化成像系統(tǒng)設計(192)
8.3雙模一體化相機(196)
8.4高分辨率三維圖像重建(201)
8.4.1六種度量值計算方法(202)
8.4.2清晰度評價函數(shù)(204)
8.5液晶基光場相機原型(206)
8.5.1近景成像用液晶基光場相機(206)
8.5.2遠景成像用液晶基光場相機(208)
8.6毫秒/亞毫秒數(shù)量級的圖像渲染耗時(214)
8.7物空間的液晶基可尋址加電層析成像(215)
8.8小結(jié)(219)
第9章紅外光場成像的石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(220)
9.1引言(220)
9.2石墨烯電極的轉(zhuǎn)移制備(220)
9.2.1機械剝離法(221)
9.2.2外延生長法(221)
9.2.3化學氣相沉積法(221)
9.2.4氧化還原法(222)
9.3基于石墨烯電極的紅外液晶微透鏡陣列(224)
9.4液晶的單晶石墨烯誘導定向(229)
9.4.1單晶石墨烯誘導的液晶初始定向特征(229)
9.4.2單晶石墨烯的液晶定向特征(235)
9.4.3單晶石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(239)
9.5小結(jié)(252)
第10章液晶基偏振成像探測(253)
10.1引言(253)
10.2偏振成像基本特征(253)
10.2.1光學旋轉(zhuǎn)器(255)
10.2.2相位延遲器(255)
10.3偏振光場成像(259)
10.4偏振光場成像用電控液晶微透鏡陣列(270)
10.4.1基片與電極(271)
10.4.2石墨烯轉(zhuǎn)移(271)
10.4.3涂布光刻膠與曝光(271)
10.4.4蝕刻(271)
10.4.5液晶器件化(271)
10.4.6測試與評估(272)
10.5層疊耦合正交偏振液晶微透鏡(273)
10.6偏振與偏振不敏感光場成像(284)
10.7小結(jié)(288)
第11章基于扭曲向列相液晶的偏振光場成像(289)
11.1引言(289)
11.2扭曲向列相電控液晶微透鏡(290)
11.2.1扭曲向列相液晶微透鏡的典型控光過程(290)
11.2.2扭曲向列相液晶微透鏡的典型工作模式(291)
11.3偏振差分去霧成像(294)
11.4偏振光場與平面成像一體化去霧(297)
11.5小結(jié)(308)
第12章石墨烯基電控液晶微透鏡與偏振光場成像(309)
12.1引言(309)
12.2單晶石墨烯制備與表征(310)
12.2.1單晶Cu(111)晶膜制備(312)
12.2.2單晶石墨烯制備(313)
12.2.3單晶石墨烯表征(313)
12.3液晶石墨烯定向(315)
12.4石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(318)
12.5偏振光場成像景深特征(322)
12.6紅外液晶微透鏡(330)
12.7小結(jié)(339)
參考文獻(340)