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偽裝隱身技術(shù)

偽裝隱身技術(shù)

定 價(jià):¥68.00

作 者: 王向偉 著
出版社: 哈爾濱工程大學(xué)出版社
叢編項(xiàng):
標(biāo) 簽: 暫缺

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ISBN: 9787566130648 出版時(shí)間: 2021-09-01 包裝: 平裝
開(kāi)本: 其他 頁(yè)數(shù): 357 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡(jiǎn)介

  本書(shū)介紹了有關(guān)偽裝隱身的一整套技術(shù)設(shè)計(jì)和組織實(shí)施的技能與方法。主要內(nèi)容包括偽裝隱身基本概念、偽裝隱身技術(shù)發(fā)展歷史及發(fā)展趨勢(shì)、目標(biāo)與環(huán)境光電特性采集與分析處理技術(shù)、迷彩圖案設(shè)計(jì)技術(shù)、信息偽裝隱身技術(shù)、電磁偽裝技術(shù)、干擾偽裝技術(shù)、示假偽裝技術(shù)、仿生偽裝技術(shù)、外加式偽裝隱身技術(shù)、內(nèi)在式偽裝隱身技術(shù)、自適應(yīng)偽裝隱身技術(shù)、等離子體偽裝隱身技術(shù)、高光譜偽裝隱身技術(shù)等。本書(shū)系統(tǒng)地介紹了偽裝隱身技術(shù)的發(fā)展歷史和具體方法,有助于偽裝隱身技術(shù)與工程專(zhuān)業(yè)設(shè)計(jì)人員、科研工作者將各種新技術(shù)、新方法在軍民高技術(shù)相關(guān)研究中進(jìn)一步推廣應(yīng)用,在軍事高科技發(fā)展等方面產(chǎn)生積極的作用,以此促進(jìn)國(guó)防建設(shè),帶動(dòng)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的發(fā)展。本書(shū)是偽裝隱身工程或相關(guān)專(zhuān)業(yè)的科技型著作,可作為偽裝隱身工程或相關(guān)專(zhuān)業(yè)本科生、研究生的選修教材,也可供偽裝隱身工程或相關(guān)專(zhuān)業(yè)研究人員參考。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《偽裝隱身技術(shù)》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

第一章 緒論
第一節(jié) 偽裝隱身基本概念
第二節(jié) 偽裝隱身技術(shù)與相關(guān)學(xué)科技術(shù)的關(guān)系
第三節(jié) 偽裝隱身技術(shù)的發(fā)展歷史
第四節(jié) 偽裝隱身技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)
第二章 目標(biāo)與環(huán)境光電特性采集分析處理技術(shù)
第一節(jié) 目標(biāo)背景的分類(lèi)特點(diǎn)
第二節(jié) 典型軍事目標(biāo)的輻射特性
第三節(jié) 典型背景的輻射特性
第四節(jié) 數(shù)據(jù)分析處理技術(shù)
第三章 迷彩圖案設(shè)計(jì)技術(shù)
第一節(jié) 斑點(diǎn)迷彩設(shè)計(jì)原則與方法
第二節(jié) 數(shù)碼迷彩設(shè)計(jì)原則與方法
第三節(jié) 迷彩圖案自動(dòng)生成技術(shù)
第四章 信息偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 信息偽裝隱身概述
第二節(jié) 信息加密技術(shù)
第三節(jié) 信息隱藏技術(shù)
第四節(jié) 信息欺騙技術(shù)
第五章 電磁偽裝技術(shù)
第一節(jié) 電磁偽裝概述
第二節(jié) 電磁偽裝手段和方法
第三節(jié) 電磁偽裝關(guān)鍵技術(shù)
第六章 干擾偽裝技術(shù)
第一節(jié) 干擾偽裝概述
第二節(jié) 干擾偽裝工作原理
第三節(jié) 遮蔽式干擾偽裝
第四節(jié) 誘餌式干擾偽裝
第五節(jié) 欺騙式干擾偽裝
第七章 示假偽裝技術(shù)
第一節(jié) 示假偽裝技術(shù)概述
第二節(jié) 制式假目標(biāo)
第三節(jié) 就便器材假目標(biāo)
第八章 仿生偽裝技術(shù)
第一節(jié) 仿生偽裝技術(shù)概述
第二節(jié) 速生植被偽裝技術(shù)
第三節(jié) 植被混凝土偽裝技術(shù)
第四節(jié) 仿生偽裝變色材料
第九章 外加式偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 外加式偽裝隱身機(jī)理
第二節(jié) 外加式偽裝隱身技術(shù)途徑
第三節(jié) 外加式偽裝隱身器材及應(yīng)用
第十章 內(nèi)在式偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 內(nèi)在式偽裝隱身機(jī)理
第二節(jié) 內(nèi)在式偽裝隱身技術(shù)途徑與組成
第三節(jié) 內(nèi)在式偽裝隱身材料及應(yīng)用
第十一章 自適應(yīng)偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 自適應(yīng)偽裝概述
第二節(jié) 自適應(yīng)偽裝工作原理
第三節(jié) 自適應(yīng)變色技術(shù)
第四節(jié) 自適應(yīng)變溫技術(shù)
第五節(jié) 自適應(yīng)變電磁參數(shù)技術(shù)
第十二章 等離子體偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 等離子體偽裝隱身概述
第二節(jié) 等離子體偽裝隱身機(jī)理
第三節(jié) 等離子體偽裝隱身技術(shù)及應(yīng)用
第十三章 高光譜偽裝隱身技術(shù)
第一節(jié) 高光譜偽裝隱身機(jī)理
第二節(jié) 高光譜偽裝隱身技術(shù)途徑與組成
第三節(jié) 高光譜圖像分類(lèi)與識(shí)別
第四節(jié) 高光譜圖像處理與偽裝探測(cè)
第五節(jié) 偽裝隱身材料光譜融合技術(shù)
參考文獻(xiàn)

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