集成電路先進(jìn)封裝工藝：Cu-Cu鍵合技術(shù)

　　微電子封裝中的互連鍵合是集成電路（integrated circuits，IC）后道制造中關(guān)鍵和難度的環(huán)節(jié)，直接影響集成電路本身電性能、光性能和熱性能等物理性能，很大程度上也決定IC產(chǎn)品小型化、功能化、可靠性和成本。然而，隨著封裝密度增加，器件功率增加，Cu凸點(diǎn)面臨尺寸大幅減小并且互連載流量大幅增加等現(xiàn)狀，產(chǎn)業(yè)界成熟的Cu-Cu鍵合方法已很難適應(yīng)高密封裝的快速發(fā)展，研發(fā)更先進(jìn)的Cu-Cu鍵合技術(shù)并推向產(chǎn)業(yè)化是當(dāng)前迫在眉睫的需求。針對(duì)電子封裝行業(yè)中所面臨的技術(shù)需求，本書系統(tǒng)介紹了國內(nèi)外Cu-Cu鍵合技術(shù)的研究現(xiàn)狀，結(jié)合作者及課題組全體研究人員長期在微電子封裝領(lǐng)域的研究積累，梳理了基于表面活化的Cu-Cu鍵合、基于金屬納米焊料的Cu-Cu、基于自蔓延反應(yīng)放熱的Cu-Cu鍵合以及先進(jìn)鍵合技術(shù)在Cu凸點(diǎn)互連中的應(yīng)用等多個(gè)熱點(diǎn)研究內(nèi)容，并在實(shí)驗(yàn)方法、工藝優(yōu)化、理論研究等多個(gè)方面進(jìn)行了深入探討。本書全面、深入地介紹了集成電路封裝中先進(jìn)的Cu-Cu鍵合技術(shù)和的研究進(jìn)展，可供高年級(jí)本科生、研究生以及從事集成電路封裝與互連/鍵合工藝研究的技術(shù)人員參考和閱讀。

暫缺《集成電路先進(jìn)封裝工藝：Cu-Cu鍵合技術(shù)》作者簡介